کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5347683 1503588 2016 27 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Properties of a-C:H:Si thin films deposited by middle-frequency magnetron sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Properties of a-C:H:Si thin films deposited by middle-frequency magnetron sputtering
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 379, 30 August 2016, Pages 516-522
نویسندگان
, , , , ,