کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5348374 | 1388073 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by RF magnetron co-sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
- TNO films were deposited by co-sputtering with a TiO2 target and a Nb target.
- The effect of Nb concentration on properties of TNO films was studied.
- The lowest resistivity was 1.2 Ã 10â3 Ω cm at the Nb concentration of 7.0 at.%.
- Hall mobility and carrier density were 2.0Â cm2/Vs and 2.6Â ÃÂ 1021Â cmâ3, respectively.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 357, Part A, 1 December 2015, Pages 622-625
Journal: Applied Surface Science - Volume 357, Part A, 1 December 2015, Pages 622-625
نویسندگان
Guangmiao Wan, Shenwei Wang, Xinwu Zhang, Miaoling Huang, Yanwei Zhang, Wubiao Duan, Lixin Yi,