کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5348374 1388073 2015 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by RF magnetron co-sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by RF magnetron co-sputtering
چکیده انگلیسی

- TNO films were deposited by co-sputtering with a TiO2 target and a Nb target.
- The effect of Nb concentration on properties of TNO films was studied.
- The lowest resistivity was 1.2 × 10−3 Ω cm at the Nb concentration of 7.0 at.%.
- Hall mobility and carrier density were 2.0 cm2/Vs and 2.6 × 1021 cm−3, respectively.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 357, Part A, 1 December 2015, Pages 622-625
نویسندگان
, , , , , , ,