کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5348653 | 1503587 | 2016 | 28 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structural and physical properties of tin oxide thin films for optoelectronic applications
ترجمه فارسی عنوان
خواص ساختاری و فیزیکی فیلمهای نازک اکسید قلع برای کاربردهای اپتوالکترونیک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Tin oxide films were deposited on glass substrates by RF magnetron sputtering. At a lower sputtering pressure, the tin oxide film comprised nanocrystalline orthorhombic SnO with a (110) orientation, greater p-type conductivity and better hydrophobicity. Increasing substrate temperature resulted in the coexistence of nanocrystalline orthorhombic SnO and tetragonal SnO2 in the deposited film, favoring hydrophilicity, changing the p-type conductivity to n-type conductivity, and reducing resistivity. As the sputtering pressure or substrate temperature increased, the tin oxide film exhibited a lower surface roughness, a larger optical energy gap, and higher optical transmission.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 380, 1 September 2016, Pages 203-209
Journal: Applied Surface Science - Volume 380, 1 September 2016, Pages 203-209
نویسندگان
Su-Shia Lin, Yung-Shiang Tsai, Kai-Ren Bai,