کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5349849 | 1503652 | 2014 | 25 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition and characterization of titanium carbide thin films by magnetron sputtering using Ti and TiC targets
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Deposition and characterization of titanium carbide thin films by magnetron sputtering using Ti and TiC targets Deposition and characterization of titanium carbide thin films by magnetron sputtering using Ti and TiC targets](/preview/png/5349849.png)
چکیده انگلیسی
The deposited layers were characterized by XRD analysis, nanoindentation, four probe technique and Raman spectroscopy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 312, 1 September 2014, Pages 57-62
Journal: Applied Surface Science - Volume 312, 1 September 2014, Pages 57-62
نویسندگان
Amina Zouina Ait Djafer, Nadia Saoula, Noureddine Madaoui, Abdellatif Zerizer,