کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5350196 1503627 2015 23 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The mechanism and process of nanosecond pulsed-laser induced subwavelength periodic ripples on silica films
ترجمه فارسی عنوان
مکانیزم و فرایند پالس لیزر نانوذره موجب ایجاد موج های طولی طول موج در فیلم های سیلیکا می شود
کلمات کلیدی
فیلم سیلیکا، آسیب ناشی از لیزر، موجی طول موج کوتاه، لیزر پالس نانو-ثانیه
ترجمه چکیده
کشف موجهای دوره ای متخلخل با ساختارهای شبکهای مشابه در حال حاضر عمدتا با آزمایشهای تخریب لیزر فتوم / پیکوسکونه مرتبط است. یک لیزر نانو سی ثانیه به طور کلی پذیرفته شده به عنوان ناتوانی در رشته سوراخ دوره ای تحت طول موج است. به تازگی، موج شکنهای دوره ای طول موج بر روی سطح سیلیکا که توسط پالس های لیزر نانوذره ایجاد شده اند دیده شده است. در این مقاله، مدل های نظری برای تفسیر فرآیند شکل گیری موج های دوره ای متخلخل که توسط لیزر پالس نانو ساکن استخراج شده اند، مورد بحث و بررسی قرار گرفته است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
The discovery of subwavelength periodic ripples with similar grating structures is currently mainly associated with femto-/picosecond laser ablation experiments. A nanosecond laser is generally accepted as incapable of etching subwavelength periodic ripples. Recently, the subwavelength periodic ripples on the surface of silica films induced by nanosecond laser pulses have been observed. In this paper, theoretical models have been established to interpret the formation process of subwavelength periodic ripples etched by nanosecond pulsed laser, and some key questions have been discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 337, 15 May 2015, Pages 151-157
نویسندگان
, , , ,