کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5351924 | 1503582 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Wafer level package of Au-Ge system using a Ge chemical vapor deposition (CVD) thin film
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Wafer level package of Au-Ge system using a Ge chemical vapor deposition (CVD) thin film Wafer level package of Au-Ge system using a Ge chemical vapor deposition (CVD) thin film](/preview/png/5351924.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 385, 1 November 2016, Pages 122-129
Journal: Applied Surface Science - Volume 385, 1 November 2016, Pages 122-129
نویسندگان
Kyeong-Keun Choi, Nazanin Hosseini, Jong Kee, Sung-Kyu Kim, Chan-Gyung Park,