کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5352073 | 1503678 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The dependence of structural and optical properties of PLD grown ZnO films on ablation parameters
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Highly c-axis oriented ZnO thin films have been grown by pulsed laser deposition (PLD) technique on quartz, silicon (1 0 0) and Al2O3 ã0 0 0 1ã substrates using KrF excimer laser (λab= 248 nm) and Q-switched fourth harmonic Nd:YAG laser (λab= 266 nm). The crystalline nature, surface morphology and optical properties of the deposited films depend on the oxygen ambience, substrate nature and deposition temperature. The band gap of ZnO thin films varies with increase of substrate temperature despite of the ablation wavelength. Strong UV-PL emission without any deep level emissions confirms the growth of stoichiometric and crystalline ZnO thin films. Raman scattering studies confirms the growth of c-axis oriented ZnO thin films at different substrate temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 286, 1 December 2013, Pages 54-60
Journal: Applied Surface Science - Volume 286, 1 December 2013, Pages 54-60
نویسندگان
Arun Aravind, M.K. Jayaraj, Mukesh Kumar, Ramesh Chandra,