کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5353199 | 1503601 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasma etching behavior of Y2O3 ceramics: Comparative study with Al2O3
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The resistance mechanism against plasma etching has been studied mainly by XPS experiments, which revealed the formation of YF3 layer on the surface of Y2O3 coating exposed to CF4 plasma, as evidenced by the existence of 3d XPS peaks of YF bonding and the concentration of F element at outmost surface.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 366, 15 March 2016, Pages 304-309
Journal: Applied Surface Science - Volume 366, 15 March 2016, Pages 304-309
نویسندگان
Yu-Chao Cao, Lei Zhao, Jin Luo, Ke Wang, Bo-Ping Zhang, Hiroki Yokota, Yoshiyasu Ito, Jing-Feng Li,