کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5353473 | 1503606 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth feature of ionic nitrogen doped CNx bilayer films with Ti and TiN interlayer by pulse cathode arc discharge
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Growth feature of ionic nitrogen doped CNx bilayer films with Ti and TiN interlayer by pulse cathode arc discharge Growth feature of ionic nitrogen doped CNx bilayer films with Ti and TiN interlayer by pulse cathode arc discharge](/preview/png/5353473.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 361, 15 January 2016, Pages 169-176
Journal: Applied Surface Science - Volume 361, 15 January 2016, Pages 169-176
نویسندگان
Bing Zhou, Zhubo Liu, D.G. Piliptsou, A.V. Rogachev, Shengwang Yu, Yanxia Wu, Bin Tang, A.S. Rudenkov,