کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5353557 | 1503689 | 2013 | 13 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of critically cleaned sapphire single-crystal substrates by atomic force microscopy, XPS and contact angle measurements
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Characterization of critically cleaned sapphire single-crystal substrates by atomic force microscopy, XPS and contact angle measurements Characterization of critically cleaned sapphire single-crystal substrates by atomic force microscopy, XPS and contact angle measurements](/preview/png/5353557.png)
چکیده انگلیسی
⺠We evaluated many reported methods for cleaning sapphire substrates using comprehensive surface analysis techniques. ⺠We found that reported methods did not perform well in terms of removing both organic and particulate contaminants. ⺠We proposed a new wet-cleaning method showing outstanding performance for cleaning sapphire substrates.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 274, 1 June 2013, Pages 405-417
Journal: Applied Surface Science - Volume 274, 1 June 2013, Pages 405-417
نویسندگان
Dan Zhang, You Wang, Yang Gan,