کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5353631 1503580 2016 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ atomic layer nitridation on the top and down regions of the amorphous and crystalline high-K gate dielectrics
ترجمه فارسی عنوان
لایه نیتروژن لایه اتمی در مناطق بالا و پایین از دی الکتریکهای گیتار بالا و کریستالی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 387, 30 November 2016, Pages 274-279
نویسندگان
, , , , ,