کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5353631 | 1503580 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ atomic layer nitridation on the top and down regions of the amorphous and crystalline high-K gate dielectrics
ترجمه فارسی عنوان
لایه نیتروژن لایه اتمی در مناطق بالا و پایین از دی الکتریکهای گیتار بالا و کریستالی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 387, 30 November 2016, Pages 274-279
Journal: Applied Surface Science - Volume 387, 30 November 2016, Pages 274-279
نویسندگان
Meng-Chen Tsai, Min-Hung Lee, Chin-Lung Kuo, Hsin-Chih Lin, Miin-Jang Chen,