کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355286 | 1503694 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characteristics of the electromagnetic interference shielding effectiveness of Al-doped ZnO thin films deposited by atomic layer deposition
ترجمه فارسی عنوان
خصوصیات تداخل الکترومغناطیسی محافظت شده از فیلم های نازک آلومینیومی ضخیم پوشیده شده توسط لایه اتمی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
⺠Al-doped ZnO thin film. ⺠Modified pulse sequence atomic layer deposition. ⺠Most effective pulse sequence of Al-doped ZnO thin films is DEZ/N2/TMA/N2/H2O/N2. ⺠6.5 dB of EMI-SE with 131 nm thick Al-doped ZnO thin film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 92-97
Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 92-97
نویسندگان
Yong-June Choi, Su Cheol Gong, David C. Johnson, Stephen Golledge, Geun Young Yeom, Hyung-Ho Park,