کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5355286 1503694 2013 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characteristics of the electromagnetic interference shielding effectiveness of Al-doped ZnO thin films deposited by atomic layer deposition
ترجمه فارسی عنوان
خصوصیات تداخل الکترومغناطیسی محافظت شده از فیلم های نازک آلومینیومی ضخیم پوشیده شده توسط لایه اتمی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
► Al-doped ZnO thin film. ► Modified pulse sequence atomic layer deposition. ► Most effective pulse sequence of Al-doped ZnO thin films is DEZ/N2/TMA/N2/H2O/N2. ► 6.5 dB of EMI-SE with 131 nm thick Al-doped ZnO thin film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 92-97
نویسندگان
, , , , , ,