کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355654 | 1503586 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Analysis of nitrogen species in titanium oxynitride ALD films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Analysis of nitrogen species in titanium oxynitride ALD films Analysis of nitrogen species in titanium oxynitride ALD films](/preview/png/5355654.png)
چکیده انگلیسی
Titanium oxynitride films are prepared by plasma enhanced atomic layer deposition method using two different precursors and nitrogen sources. Synchrotron radiation-based X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray absorption spectroscopy are used to characterize the nitrogen species incorporated within these films depending on the deposition parameters. It is found that nitrogen atoms in these films are differently bonded. In particular, it can be distinguished between TiON and TiN bonding configurations and molecular nitrogen species caused by precursor fragments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 381, 15 September 2016, Pages 42-47
Journal: Applied Surface Science - Volume 381, 15 September 2016, Pages 42-47
نویسندگان
MaÅgorzata SowiÅska, Simone Brizzi, Chittaranjan Das, Irina Kärkkänen, Jessica Schneidewind, Franziska Naumann, Hassan Gargouri, Karsten Henkel, Dieter SchmeiÃer,