کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356460 | 1388204 | 2011 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition and characterization of layer-by-layer sputtered AgGaSe2 thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Sputtering technique has been used for the deposition of AgGaSe2 thin films. ⺠There was a pronounce effect of post-annealing on chemical composition of samples. ⺠Mono phase AgGaSe2 was obtained at 600 °C annealing temperature. ⺠Band gap values were found to be varying between 1.55 and 1.77 eV. ⺠The crystal-field and spin-orbit splitting levels were resolved.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5731-5738
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5731-5738
نویسندگان
H. Karaagac, M. Parlak,