کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5356460 1388204 2011 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition and characterization of layer-by-layer sputtered AgGaSe2 thin films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Deposition and characterization of layer-by-layer sputtered AgGaSe2 thin films
چکیده انگلیسی
► Sputtering technique has been used for the deposition of AgGaSe2 thin films. ► There was a pronounce effect of post-annealing on chemical composition of samples. ► Mono phase AgGaSe2 was obtained at 600 °C annealing temperature. ► Band gap values were found to be varying between 1.55 and 1.77 eV. ► The crystal-field and spin-orbit splitting levels were resolved.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5731-5738
نویسندگان
, ,