کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356472 | 1388204 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanoscale semiconductor Pb1âxSnxSe (x = 0.2) thin films synthesized by electrochemical atomic layer deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The semiconductor is synthesized at room temperature by electrochemical atomic layer deposition (EC-ALD) ⺠The SEM demonstrates that the EC-ALD methodology is promising in controlling the Pb1âxSnxSe (x = 0.2) compounds' growth and forming homogeneous deposits at nanometer scale. ⺠The excellent photoelectric performance of the compound is verified with a light on-off test.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5803-5807
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5803-5807
نویسندگان
Shaoxiong Lin, Xin Zhang, Xuezhao Shi, Jinping Wei, Daban Lu, Yuzhen Zhang, Huanhuan Kou, Chunming Wang,