| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 5356472 | 1388204 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												Nanoscale semiconductor Pb1âxSnxSe (x = 0.2) thin films synthesized by electrochemical atomic layer deposition
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												کلمات کلیدی
												
											موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													شیمی
													شیمی تئوریک و عملی
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												چکیده انگلیسی
												⺠The semiconductor is synthesized at room temperature by electrochemical atomic layer deposition (EC-ALD) ⺠The SEM demonstrates that the EC-ALD methodology is promising in controlling the Pb1âxSnxSe (x = 0.2) compounds' growth and forming homogeneous deposits at nanometer scale. ⺠The excellent photoelectric performance of the compound is verified with a light on-off test.
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5803-5807
											Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 13, 15 April 2011, Pages 5803-5807
نویسندگان
												Shaoxiong Lin, Xin Zhang, Xuezhao Shi, Jinping Wei, Daban Lu, Yuzhen Zhang, Huanhuan Kou, Chunming Wang,