کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356743 | 1388208 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Phase formation and thermal stability of periodic Ni-silicide nanocontact arrays on epitaxial Si1âxCx layers on Si(1Â 0Â 0)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The interfacial reactions of nanoscale Ni metal dots on single-crystal Si1âxCx/Si(1 0 0) substrates were investigated. ⺠The incorporation of C to Si substrates exhibited significant beneficial effects on improving the thermal stability of low-resistivity NiSi nanocontacts. ⺠The process window of low-resistivity NiSi in the Ni nanodots/Si1âxCx(1 0 0) sample was greatly extended by 200-250 °C as compared to that in the Ni nanodots/Si(1 0 0) sample. ⺠Highly curled and tangled amorphous SiOx nanowires with diameters of 8-20 nm were found to form on the 900 °C annealed Ni nanodots/Si1âxCx(1 0 0) samples.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8713-8718
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8713-8718
نویسندگان
S.L. Cheng, Y.C. Tseng, S.W. Lee, H. Chen,