کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356753 | 1388208 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of delafossite-CuCrO2 thin films prepared by post-annealing using an atmospheric pressure plasma torch
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Dealfossite-CuCrO2 thin film was prepared using sol-gel processing and post-annealing with an atmospheric pressure plasma torch. ⺠X-ray diffraction pattern shows pure delafossite-CuCrO2 thin films can be obtained. ⺠The average transmittance of the film was 66% in the visible region and the direct optical bandgap was 3.08 eV. ⺠The electrical conductivity of the film was 2.7 Ã 10â2 Scmâ1 with the carrier concentration of 2.8 Ã 1013 cmâ3.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8775-8779
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8775-8779
نویسندگان
Hong-Ying Chen, Wei-Jung Yang, Kuei-Ping Chang,