کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356796 | 1388208 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
rf Power dependence on the chemical and structural properties of copper oxide thin films obtained at various oxygen fractions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We deposit cupric/cuprous oxide thin films on a flexible substrate varying rf power. ⺠Preferential growth and the ratio of cupric and cuprous copper oxide was controlled by rf power. ⺠Different oxidation states and crystalline phase of Cu species were confirmed by X-ray induced Auger electron spectroscopy and XRD, respectively.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 9054-9057
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 9054-9057
نویسندگان
Kyounga Lim, Juyun Park, Do-Geun Kim, Jong-Kuk Kim, Jae-Wook Kang, Yong-Cheol Kang,