کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356976 | 1503605 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nonlinear switching in Al/Li:NiO/ITO forming-free resistive memories caused by interfacial layer
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Forming free Al/Li:NiO/ITO devices show a reduced power, better variability than the devices after forming.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 362, 30 January 2016, Pages 506-511
Journal: Applied Surface Science - Volume 362, 30 January 2016, Pages 506-511
نویسندگان
Xin-Cai Yuan, Xian-Hua Wei, Bo Dai, Hui-Zhong Zeng,