کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5357161 | 1388213 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of SF6/Ar gas-mixing ratio on the etching behavior and properties of BZN thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We study films surface etch rate with gas mixing ratio variation by error bars. ⺠We study films surface etch reaction and compositions with gas mixing ratio by XPS. ⺠We study films surface morphology and dielectric property with gas mixing ratio. ⺠The results are important and instructive for further etching.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 19, 15 July 2012, Pages 7755-7759
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 19, 15 July 2012, Pages 7755-7759
نویسندگان
L.P. Dai, G.J. Zhang, S.Y. Wang, Z.Q. Zhong, G. Wang,