کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5357521 | 1503608 | 2015 | 20 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of negative bias on the composition and structure of the tungsten oxide thin films deposited by magnetron sputtering
ترجمه فارسی عنوان
اثر تعصب منفی بر ترکیب و ساختار فیلمهای نازک اکسید تنگستن که توسط اسپکترومغناطیسی مگنترون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Tungsten oxide films deposited at different negative bias voltages by reactive magnetron sputtering transfer from amorphous to crystalline (monoclinic + hexagonal) after annealing at 500 °C in air atmosphere. Furthermore, the crystallized tungsten oxide films show different preferred orientation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 359, 30 December 2015, Pages 521-525
Journal: Applied Surface Science - Volume 359, 30 December 2015, Pages 521-525
نویسندگان
Meihan Wang, Hao Lei, Jiaxing Wen, Haibo Long, Yutaka Sawada, Yoichi Hoshi, Takayuki Uchida, Zhaoxia Hou,