کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5358917 | 1388240 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of crystalline structure of TiO2 substrates on initial growth of atomic layer deposited Ru thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
ⶠRu films were grown on polymorphic TiO2 substrates by ALD. ⶠAnatase TiO2 shows a shorter incubation cycle for Ru ALD. ⶠThe difference in the incubation cycle affects the surface morphology of Ru films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 9, 15 February 2011, Pages 4302-4305
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 9, 15 February 2011, Pages 4302-4305
نویسندگان
Seong Keun Kim, Sora Han, Jeong Hwan Han, Cheol Seong Hwang,