کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5358917 1388240 2011 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of crystalline structure of TiO2 substrates on initial growth of atomic layer deposited Ru thin films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Effect of crystalline structure of TiO2 substrates on initial growth of atomic layer deposited Ru thin films
چکیده انگلیسی
▶ Ru films were grown on polymorphic TiO2 substrates by ALD. ▶ Anatase TiO2 shows a shorter incubation cycle for Ru ALD. ▶ The difference in the incubation cycle affects the surface morphology of Ru films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 9, 15 February 2011, Pages 4302-4305
نویسندگان
, , , ,