کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5359343 | 1388245 | 2011 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A first-principles calculation on the electronic properties of Si/N-codoped TiO2
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The doping atom location has effect on the electronic structures of Si/N-codoped TiO2. â¶ Replacing O atom with N atom and replacing the adjacent Ti atom with Si atom, TiO2 has the smallest defect formation energy and band gap. â¶ In Si/N-codoped TiO2, the hybridization between impurity states and O-2p states could enhance the lifetime of photo-generated holes and change some unoccupied N-2p states to occupied states.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 7, 15 January 2011, Pages 3000-3006
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 7, 15 January 2011, Pages 3000-3006
نویسندگان
Weimei Shi, Qifeng Chen, Yao Xu, Dong Wu, Chunfang Huo,