کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5359691 | 1503681 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of oxygen pressure and substrate temperature on the properties of aluminum fluoride thin films
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر فشار اکسیژن و دمای سوبسترا بر خواص نازک فلوراید آلومینیوم
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
فلوراید آلومینیوم، ثابت نوری، آستانه خسارت ناشی از لیزر،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Single layers of AlF3 were deposited at different substrate temperature by resistant heating technique in vacuum and in certain oxygen pressure. The chemical composition, total stress, optical constants and laser damage resistance were characterized. Comparative study indicates that AlF3 films deposited under certain oxygen pressure and lower temperature tend to absorb more water when exposed to air and as a result, their total stress and optical absorption are reduced. These differences and the increased laser-induced damage threshold (LIDT) at 355Â nm demonstrate that reasonable oxygen pressure and substrate temperature may improve AlF3 films' UV performance.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 282, 1 October 2013, Pages 226-230
Journal: Applied Surface Science - Volume 282, 1 October 2013, Pages 226-230
نویسندگان
Xu Li, Weili Zhang, Jian Sun, Jie Liu, Yongqiang Hou, Ling Lin, Kai He, Kui Yi,