کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5360090 | 1503687 | 2013 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
New model for low-temperature oxidation of copper single crystal
ترجمه فارسی عنوان
مدل جدید برای اکسیداسیون کم کریستال مس
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Low-temperature oxidation of a copper single crystal, Cu(1Â 1Â 1), was investigated using an in situ spectroscopic ellipsometer. The oxidation rate followed the cubic rate law at 5-25Â nm oxide thickness; thus, the rate law of Cu single crystal oxidation depended on Cu oxide thickness. Furthermore, the activation energy was found to be close to that of grain boundary diffusion of metal ions in the oxide layer. These results could be explained by grain boundary diffusion and oxide grain growth. Thus, we verified that the low-temperature oxidation kinetics of copper depend on oxide grain growth.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 276, 1 July 2013, Pages 347-358
Journal: Applied Surface Science - Volume 276, 1 July 2013, Pages 347-358
نویسندگان
Kensuke Fujita, Daisuke Ando, Masahito Uchikoshi, Kouji Mimura, Minoru Isshiki,