کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5360272 | 1503688 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Implantation of xenon in amorphous carbon and silicon for brachytherapy application
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Ion beam deposition was used to implant Xe in a-C and a-Si for brachytherapy seeds. ⺠High Xe dose was implanted with energy much lower than conventional implantation. ⺠Xe are incorporated as small clusters in a-C and dispersed in a-Si.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 275, 15 June 2013, Pages 156-159
Journal: Applied Surface Science - Volume 275, 15 June 2013, Pages 156-159
نویسندگان
F.C. Marques, P.F. Barbieri, G.A. Viana, D.S. da Silva,