کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5360432 1503693 2013 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Preparation and properties of KCl-doped Cu2O thin film by electrodeposition
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Preparation and properties of KCl-doped Cu2O thin film by electrodeposition
چکیده انگلیسی
► Cu2O thin film were fabricated by electrodeposition KCl as doping agent. ► KCl-doped influence morphology of Cu2O thin film. ► KCl-doped influence resistivity, open-circuit voltage and conduction type. ► Annealing processing influence resistivity and open-circuit voltage. ► The forbidden band width of Cu2O thin film is 1.98 eV.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 270, 1 April 2013, Pages 340-345
نویسندگان
, , , , , ,