کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5360432 | 1503693 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Preparation and properties of KCl-doped Cu2O thin film by electrodeposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Cu2O thin film were fabricated by electrodeposition KCl as doping agent. ⺠KCl-doped influence morphology of Cu2O thin film. ⺠KCl-doped influence resistivity, open-circuit voltage and conduction type. ⺠Annealing processing influence resistivity and open-circuit voltage. ⺠The forbidden band width of Cu2O thin film is 1.98 eV.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 270, 1 April 2013, Pages 340-345
Journal: Applied Surface Science - Volume 270, 1 April 2013, Pages 340-345
نویسندگان
Xiaojiao Yu, Xinming Li, Gang Zheng, Yuchen Wei, Ama Zhang, Binghua Yao,