کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5361220 | 1388271 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structural and electrical properties of AlN films deposited using reactive RF magnetron sputtering for solar concentrator application
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We deposited AlN coating using RF magnetron sputtering. ⺠Al interlayer was deposited to improve film bonding to substrate. ⺠The deposition conditions were optimized in order to achieve the smooth coating. ⺠Electrical properties depend on interlayer.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 8, 1 February 2012, Pages 3450-3454
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 8, 1 February 2012, Pages 3450-3454
نویسندگان
A. Kale, R.S. Brusa, A. Miotello,