کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5361431 | 1503704 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Inductively coupled plasma etching to fabricate sensing window for polymer waveguide biosensor application
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We designed and fabricated an improved sensing window based on the ICP method. ⺠The sensitivity of the sensor was enhanced by a factor of 2.8 in theory. ⺠The etching rate of P(MMA-GMA) was twice as fast as that of SU-8 2005. ⺠The parameters were optimized to minimize the surface roughness in the etched area. ⺠The sensor presented a higher sensitivity than the conventional waveguide sensor.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 259, 15 October 2012, Pages 105-109
Journal: Applied Surface Science - Volume 259, 15 October 2012, Pages 105-109
نویسندگان
Xibin Wang, Jie Meng, Xiaoqiang Sun, Tianfu Yang, Jian Sun, Changming Chen, Chuantao Zheng, Daming Zhang,