کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362064 | 1388280 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Spectroscopic investigation of the physicochemical origin of the spontaneous delamination of the sputtered amorphous carbon nitride films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We present in this study a spectroscopic investigation of the delamination of the amorphous carbon nitride (a-CNx) films deposited by RF magnetron sputtering of a graphite target in Ar/N2 gas mixture. The microstructure of the studied films have been analysed prior and after their delamination. The origin of the observed spontaneous delamination have been elucidated in terms of chemical reactions between water and CN bonds at the a-CNx/Si interface, which support delamination crack advance.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 20, 30 July 2009, Pages 8706-8709
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 20, 30 July 2009, Pages 8706-8709
نویسندگان
S. Peponas, M. Guedda, M. Benlahsen,