کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5362104 1388281 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The influence of boron doping level on quality and stability of diamond film on Ti substrate
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
The influence of boron doping level on quality and stability of diamond film on Ti substrate
چکیده انگلیسی
► The influence of boron doping on diamond quality was discussed in detail. ► The film adhesion was systematic analyzed. ► Electrode inactivation mechanism was discussed. ► Boron doping level can be optimized based on this study.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6909-6913
نویسندگان
, , , , ,