کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362104 | 1388281 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The influence of boron doping level on quality and stability of diamond film on Ti substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: The influence of boron doping level on quality and stability of diamond film on Ti substrate The influence of boron doping level on quality and stability of diamond film on Ti substrate](/preview/png/5362104.png)
چکیده انگلیسی
⺠The influence of boron doping on diamond quality was discussed in detail. ⺠The film adhesion was systematic analyzed. ⺠Electrode inactivation mechanism was discussed. ⺠Boron doping level can be optimized based on this study.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6909-6913
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6909-6913
نویسندگان
J.J. Wei, Ch.M. Li, X.H. Gao, L.F. Hei, F.X. Lvun,