کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362104 | 1388281 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The influence of boron doping level on quality and stability of diamond film on Ti substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The influence of boron doping on diamond quality was discussed in detail. ⺠The film adhesion was systematic analyzed. ⺠Electrode inactivation mechanism was discussed. ⺠Boron doping level can be optimized based on this study.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6909-6913
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6909-6913
نویسندگان
J.J. Wei, Ch.M. Li, X.H. Gao, L.F. Hei, F.X. Lvun,