کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362545 | 1388289 | 2009 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Au-assisted electroless etching of silicon in aqueous HF/H2O2 solution
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Au-assisted electroless etching of silicon in aqueous HF/H2O2 solution Au-assisted electroless etching of silicon in aqueous HF/H2O2 solution](/preview/png/5362545.png)
چکیده انگلیسی
The Au-assisted electroless etching of p-type silicon substrate in HF/H2O2 solution at 50 °C was investigated. The dependence of the crystallographic orientation, the concentration of etching solution and the silicon resistivity on morphology of etched layer was studied. The layers formed on silicon were investigated by scanning electron microscopy (SEM). It was demonstrated that although the deposited Au on silicon is a continuous film, it can produce a layer of silicon nanowires or macropores depending on the used solution concentration.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 12, 1 April 2009, Pages 6210-6216
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 12, 1 April 2009, Pages 6210-6216
نویسندگان
Nacéra Megouda, Toufik Hadjersi, Gaëlle Piret, Rabah Boukherroub, Omar Elkechai,