کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5363342 | 1388300 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermal stability and electrical characteristics of NiSi films with electroplated Ni(W) alloy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Electroplating deposited NiW alloying films as diffusion barrier layers. ⺠The barrier performance of NiW films was improved with W atom blocked. ⺠Cu atom is hardly diffuse through NiW barrier layer. ⺠The stacked Si/Ni(W)/Cu films is perfect at 600 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 22, 1 September 2011, Pages 9351-9354
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 22, 1 September 2011, Pages 9351-9354
نویسندگان
Yuhang Xin, Anmin Hu, Ming Li, Dali Mao,