کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5363497 | 1503696 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Very low drift and high sensitivity of nanocrystal-TiO2 sensing membrane on pH-ISFET fabricated by CMOS compatible process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We can fabricate sensing membrane layer from TiN with low drift rate. ⺠The EIS device incorporating TiN film annealed at 850 °C exhibited a highest sensitivity. ⺠pH-sensing device fabrication process is fully compatible with CMOS technology.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 267, 15 February 2013, Pages 206-211
Journal: Applied Surface Science - Volume 267, 15 February 2013, Pages 206-211
نویسندگان
W. Bunjongpru, A. Sungthong, S. Porntheeraphat, Y. Rayanasukha, A. Pankiew, W. Jeamsaksiri, A. Srisuwan, W. Chaisriratanakul, E. Chaowicharat, N. Klunngien, C. Hruanun, A. Poyai, J. Nukeaw,