کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5363783 | 1388306 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of annealing on laser-induced damage threshold of TiO2/SiO2 high reflectors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Effects of annealing on laser-induced damage threshold of TiO2/SiO2 high reflectors Effects of annealing on laser-induced damage threshold of TiO2/SiO2 high reflectors](/preview/png/5363783.png)
چکیده انگلیسی
The mechanism of improving 1064 nm, 12 ns laser-induced damage threshold (LIDT) of TiO2/SiO2 high reflectors (HR) prepared by electronic beam evaporation from 5.1 to 13.1 J/cm2 by thermal annealing is discussed. Through optical properties, structure and chemical composition analysis, it is found that the reduced atomic non-stoichiometric defects are the main reason of absorption decrease and LIDT rise after annealing. A remarkable increase of LIDT is found at 300 °C annealing. The refractive index and film inhomogeneity rise, physical thickness decrease, and film stress changes from compress stress to tensile stress due to the structure change during annealing.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 22, 15 September 2007, Pages 8911-8914
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 22, 15 September 2007, Pages 8911-8914
نویسندگان
Jianke Yao, Jianda Shao, Hongbo He, Zhengxiu Fan,