کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5363964 | 1388308 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Work function engineering and its applications in ohmic contact fabrication to II-VI semiconductors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
To the best of knowledge this is the first time applications on such type of methodology has presented in contact applications to CdTe.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 15, 30 May 2008, Pages 4908-4911
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 15, 30 May 2008, Pages 4908-4911
نویسندگان
B. Ghosh,