کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5363964 | 1388308 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Work function engineering and its applications in ohmic contact fabrication to II-VI semiconductors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Work function engineering and its applications in ohmic contact fabrication to II-VI semiconductors Work function engineering and its applications in ohmic contact fabrication to II-VI semiconductors](/preview/png/5363964.png)
چکیده انگلیسی
To the best of knowledge this is the first time applications on such type of methodology has presented in contact applications to CdTe.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 15, 30 May 2008, Pages 4908-4911
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 15, 30 May 2008, Pages 4908-4911
نویسندگان
B. Ghosh,