کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5364042 | 1388310 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dependence of electron and positron backscattering coefficients on Al film thickness
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The backscattering coefficient of 1-4Â keV electron and positron beams normally incident impinging on Al thin film targets is stochastically modeled within a Monte Carlo frame work. The aim of the present paper is to study the behavior of the backscattering coefficient as a function of the Al film thickness. To the authors' knowledge, no theoretical or experimental work on the dependence of the positron backscattering coefficient on film thickness targets has been reported so far. It is found that the backscattering coefficient for both electron and positron beams presents different behaviors when the Al film thickness belongs to the nano-scale. Beyond this scale, the behavior becomes qualitatively similar.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 21, 31 August 2007, Pages 8725-8728
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 21, 31 August 2007, Pages 8725-8728
نویسندگان
A. Bentabet, N. Bouarissa,