کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5364135 1503700 2012 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High-quality GaN nanowires grown on Si and porous silicon by thermal evaporation
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
High-quality GaN nanowires grown on Si and porous silicon by thermal evaporation
چکیده انگلیسی
► A new kind of substrate (porous silicon) was used. ► Also this research introduces an easy and safe method to grow high quality GaN NWs. ► This is a new growth process to decrease the cost, complexity of growth of GaN NWs. ► It is a controllable method to synthesize GaN NWs by thermal evaporation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 263, 15 December 2012, Pages 50-53
نویسندگان
, , , , ,