| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 5364135 | 1503700 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												High-quality GaN nanowires grown on Si and porous silicon by thermal evaporation
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													شیمی
													شیمی تئوریک و عملی
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												
												چکیده انگلیسی
												⺠A new kind of substrate (porous silicon) was used. ⺠Also this research introduces an easy and safe method to grow high quality GaN NWs. ⺠This is a new growth process to decrease the cost, complexity of growth of GaN NWs. ⺠It is a controllable method to synthesize GaN NWs by thermal evaporation.
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 263, 15 December 2012, Pages 50-53
											Journal: Applied Surface Science - Volume 263, 15 December 2012, Pages 50-53
نویسندگان
												L. Shekari, A. Ramizy, K. Omar, H. Abu Hassan, Z. Hassan,