کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5364205 | 1503700 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electrical transport properties of Al-doped ZnO films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠High quality Al:ZnO films were deposited by rf magnetron sputtering technique. ⺠Metal-semiconductor transition was found in Al:ZnO film with big grain size. ⺠Both 2% and 4% Al-doped ZnO films are intrinsic metal in electrical transport properties. ⺠The tunneling effect dominates the temperature behavior of resistivity of Al:ZnO film with small grain size.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 263, 15 December 2012, Pages 486-490
Journal: Applied Surface Science - Volume 263, 15 December 2012, Pages 486-490
نویسندگان
Xin Dian Liu, Jing Liu, Si Chen, Zhi Qing Li,