کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5367566 | 1388368 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Role of plasma activation in tailoring the nanostructure of multifunctional oxides thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Potential of O2 remote plasmas for improving structural, morphological and optical properties of various multifunctional oxides thin films both during plasma assisted growth as well as by post-growth treatments is discussed. In particular, an O2 remote plasma metalorganic chemical vapor deposition (RP-MOCVD) route is presented for tailoring the structural, morphological and optical properties of Er2O3 and ZnO films. Furthermore, post-growth room-temperature remote O2 plasma treatments of indium-tin-oxides (ITO) films are demonstrated to be effective in improving morphology of ITO films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 10, 1 March 2009, Pages 5396-5400
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 10, 1 March 2009, Pages 5396-5400
نویسندگان
Maria M. Giangregorio, Maria Losurdo, Pio Capezzuto, Giovanni Bruno,