کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5367732 | 1388372 | 2008 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of magnetic materials and structures on Si(0 0 1) substrates using Co2Si as a template layer
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We report in this paper the use of Co2Si silicide as a template layer for the integration of magnetic materials and structures on silicon substrate. By undertaking Co deposition on silicon at a temperature of about 300 °C, we show that it is possible to obtain a smooth and epitaxial Co2Si layer, which can act as a template layer preventing the reaction between Co and other transition metals with silicon. Two examples of over-growth of magnetic materials and structures on this template layer will be presented: growth of ferromagnetic Co layers and of magnetic tunnel junctions (Co(Fe)/AlOx/NiFe).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 19, 30 July 2008, Pages 6040-6047
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 19, 30 July 2008, Pages 6040-6047
نویسندگان
S. Olive Mendez, V. Le Thanh, A. Ranguis, J. Derrien,