کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5368458 | 1388395 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Annealing studies of Ti/Al multilayer film by slow positron beam
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Single detector and coincidence Doppler broadening (CDB) spectroscopy measurements using slow positron beam were carried out to study as-deposited and annealed Ti/Al multilayer films. The changes of the film structure and defects in each layer by heat treatment have been investigated through the analysis of Doppler broadening lineshape variation. The coincidence Doppler broadening measurements revealed that Ti is the dominant diffusion species during the alloying process of Ti/Al by high temperature annealing. These results highlight the potential of slow positron beam in characterizing the vacancy-type defects evolution and mechanism of interlayer diffusion in Ti/Al multilayer film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 17, 30 June 2007, Pages 7309-7312
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 17, 30 June 2007, Pages 7309-7312
نویسندگان
L.Z. Zhang, D.N. Wang, B.Y. Wang, R.S. Yu, L. Wei,