کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5370515 | 1388499 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of self-ordered nanohole arrays on Si by localized anodization and subsequent chemical etching
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Nanohole arrays with a 60Â nm hole periodicity were fabricated on a Si substrate by the anodization of an aluminum film sputtered on a Si substrate in sulfuric acid and subsequent chemical etching. The transfer of the nanoporous pattern of anodic alumina into the Si substrate was achieved by the selective removal of silicon oxide, which was produced by the anodic oxidation of the underlying Si substrate through the anodic porous alumina used as a mask.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 5, 15 December 2005, Pages 1668-1673
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 5, 15 December 2005, Pages 1668-1673
نویسندگان
Hidetaka Asoh, Akihiko Oide, Sachiko Ono,