کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5377361 | 1504339 | 2006 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A new simulation model for electrochemical metal deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A new atomistic simulation model for electrochemical systems is presented. It combines microcanonical molecular dynamics for the electrode with stochastic dynamics for the solution, and allows the simulation of electrochemical deposition and dissolution for specific electrode potentials. As first applications the deposition of silver and platinum on Au(1Â 1Â 1) have been studied; both flat surfaces and surfaces with islands have been considered. The two systems behave quite differently: Ag on Au(1Â 1Â 1) grows layer by layer, while Pt forms a surface alloy on Au(1Â 1Â 1), which is followed by three-dimensional growth.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics - Volume 320, Issues 2â3, 5 January 2006, Pages 149-154
Journal: Chemical Physics - Volume 320, Issues 2â3, 5 January 2006, Pages 149-154
نویسندگان
W. Schmickler, K. Pötting, M. Mariscal,