کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5377545 | 1504821 | 2017 | 20 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemical etching of copper foils for single-layer graphene growth by chemical vapor deposition
ترجمه فارسی عنوان
اکتیو شیمیایی فویل مس برای رشد یکنواخت گرافن توسط رسوبات بخار شیمیایی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اچینگ شیمیایی، گرافن تک لایه، رسوبات بخار شیمیایی، فویل مس، مورفولوژی سطح،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 685, 1 October 2017, Pages 40-46
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 685, 1 October 2017, Pages 40-46
نویسندگان
Naoki Yoshihara, Masaru Noda,