کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5380112 1504881 2015 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermodynamic study of the chemical vapor deposition in the SiCl3CH3-NH3-H2 system
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Thermodynamic study of the chemical vapor deposition in the SiCl3CH3-NH3-H2 system
چکیده انگلیسی
Equilibrium concentration distribution of the top 10 maximum concentration species.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 623, 2 March 2015, Pages 29-36
نویسندگان
, , , , , ,