کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5382080 | 1504935 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanocluster dynamics in fast rate epitaxy under mesoplasma condition
ترجمه فارسی عنوان
دینامیک نانوکلستر در اپیتاکسی سرعت سریع در شرایط مزوپلاسما
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
⺠Loosely-bound Si cluster forms during rapid cooling of high temperature Si vapors. ⺠Si clusters deform and order spontaneously upon impingement on a substrate. ⺠Si clusters as growth precursors facilitate epitaxy with reduced impact energies.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 564, 28 March 2013, Pages 47-53
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 564, 28 March 2013, Pages 47-53
نویسندگان
L.W. Chen, Y. Shibuta, M. Kambara, T. Yoshida,