کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5383865 | 1645403 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The electronic structure of HfF5- and WF5-
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠The electronic structure of HfF5- and WF5- is computed using ab initio methods. ⺠Hafnium fluorides are much more stable than the corresponding tungsten fluorides. ⺠The detachment energy is 8.8 eV for HfF5- and is only 3.9 eV for WF5-. ⺠It is possible to photodetach WF5- while leaving HfF5- unaffected. ⺠Photodetachment can be used to suppress interfering 182W in the detection of 182Hf.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 511, Issues 4â6, 5 August 2011, Pages 196-200
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 511, Issues 4â6, 5 August 2011, Pages 196-200
نویسندگان
Hongshan Chen, Pontus Andersson, Anton O. Lindahl, Dag Hanstorp,