| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 5386576 | 1505032 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of high-quality ITO thin films at low temperature by tuning the oxygen flow rate using the nano-cluster deposition (NCD) technique
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
High-quality ITO thin films at low temperature by tuning the oxygen flow rate using the nano-cluster deposition (NCD) technique studied.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 490, Issues 4â6, 26 April 2010, Pages 234-237
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 490, Issues 4â6, 26 April 2010, Pages 234-237
نویسندگان
S.V.N. Pammi, Anupama Chanda, Nak-Jin Seong, Soon-Gil Yoon,