کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5389844 | 1505152 | 2006 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A first-principles study of oxidation pattern in magic Si7 cluster
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Oxidation pattern of the magic cluster Si7 was studied by first-principles calculations of Si7On (n = 1-14) clusters. The lowest-energy structures of the Si-rich clusters consist of a pure Si fragment and an oxide fragment. The oxidation is found to extend from one edge throughout the whole cluster as the number of the oxygen atoms increases. Fragmentation energy analysis shows that the Si-rich clusters can often dissociate into a small pure Sin (n = 2-6) cluster and a silicon oxide fragment.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 430, Issues 1â3, 19 October 2006, Pages 1-7
Journal: Chemical Physics Letters - Volume 430, Issues 1â3, 19 October 2006, Pages 1-7
نویسندگان
Q.J. Zang, Z.M. Su, W.C. Lu, C.Z. Wang, K.M. Ho,